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中華民國第二十屆國際版畫雙年展

  • 中華民國第二十屆國際版畫雙年展
    中華民國第二十屆國際版畫雙年展
    類別: 展覽專輯
    出版日期: 2022-08-26
    刊登日期: 2023-02-01
    編著者: 林筱娪、王美雲
    格式: 頁碼
    頁碼: 224
    ISBN: 978-986-532-619-7
    裝訂規格: 0
    內容:

    「中華民國第二十屆國際版畫雙年展」由文化部指導,國立臺灣美術館主辦,歷經40年間不懈耕耘,宗旨為提倡版畫藝術創作、促進國際文化交流、共同豐富版畫藝術未來的多元發展,是現存歷史最悠久的國際版畫雙年展之一,迄今已是第20屆。

    本屆籌備期間遭逢全球共同面對COVID-19疫情的衝擊,故而開啟了嶄新的趨勢與變革,諸如首次採取線上初審審查、入圍作品的運費由主辦單位負擔等,在突破疫情影響的轉圜方案下,也有利提升參賽者的參與便利性及順應國際趨勢,開展新的篇章。

    本屆共收到791011件作品報名參賽,歷經初審評審團選出187件入圍作品;再交由複審評審團,由實際到館的入圍作品當中,選出50180件展出作品,其中亦包含金牌獎、銀牌獎、銅牌獎、評審團特別獎2名、優選獎5名、佳作5名等15件得獎作品,2022年8月至11月於國立臺灣美術館展出。

    本屆得獎者,除了臺灣的藝術家外,亦有來自日本、中國等亞洲國家者;來自法國、烏克蘭、英國、波蘭、德國、西班牙等歐洲國家者;以及來自哥倫比亞、古巴等中南美洲國家者,精彩呈現不同文化底蘊下,多元的觀點演繹與藝術語彙傳達。

    作品創作議題涵蓋自我內心世界的深度探索與關照;或對所處時空的叩問與探詢;或純粹淬鍊於形式上的形象美學,那些多元並蓄的洞察或辯證姿態,皆在創作美學的轉譯下,重塑為美學維度下的光影與色彩。