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  • 「2020年數位藝術人才國外駐棧創作」徵件開始

    「2020年數位藝術人才國外駐棧創作」徵件開始

    國立臺灣美術館「2020年數位藝術人才國外駐棧創作」開始徵件 為培養國內數位藝術創作人才,提升其國際視野,並活絡臺灣與國際間的數位藝術交流互動,依國立臺灣美術館「數位藝術人才培育補助作業要點」,藉由公開遴選之機制,補助優秀人才至國外駐棧創作,以提升技術應用與藝術創作之深度與高度,厚植臺灣數位藝術發展實力。 本年度徵件日期至2020年3月20日止,與本館合作之國外駐棧數位藝術機構如下: 荷蘭V2_動態媒體藝術實驗室(V2_Lab for the Unstable Media,以下簡稱「V2_」):配合該中心之夏季駐棧計畫(Summer Session),於2020年7月至9月間,進行為期6 - 8週之駐棧。 西班牙Medialab Prado媒體藝術實驗室(以下簡稱「Medialab」):於2020年6月至7月間,進行為期最長達6週之駐棧。 申請對象及條件 具備中華民國國籍,無兵役或其他法律限制出國者。 以新媒體藝術類為限(含數位藝術、科技藝術、生物藝術等),至申請截止日前持續創作兩年以上,且曾舉辦個展、聯展或聯合演出者。 ...

    日期: 地點:國立臺灣美術館
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