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  • 「中華民國第十九屆國際版畫雙年展」徵件簡章

    「中華民國第十九屆國際版畫雙年展」徵件簡章

    「中華民國第十九屆國際版畫雙年展」徵件簡章 一、宗旨 為倡導版畫藝術創作,促進國際文化交流,邀請世界各地優秀的藝術家共同參與。透過參賽與展覽的過程,開展國際版畫雙年展的交流平台,共同豐富版畫藝術未來之多元發展。 指導單位:文化部 主辦單位:國立臺灣美術館 二、作業時程 2019年9月 簡章發布 2019年12月3日 收件開始 2020年2月5日 收件截止(郵戳為憑) 2020年4月9日 初審結果公告 2020年5月6日 得獎名單公告 2020年7月 頒獎及展覽開幕 2020年7月-9月 展覽期間 2020年7月 未展出作品退件 2020年11月30日前 展出作品退件 ※註:作業時間如有更動,以主辦單位通知為準,並即時於國立臺灣美術館網站及國際版畫雙年展網站公告。 三、參賽規定 (一)不需報名費用,各國人士皆可報名參與。以紙創作為限,須為2017年(含)以後之創作及未曾在本展覽展出之原作。 (二)版畫為具複數性及間接性特質,經轉印或製版印製完成之原作(含單刷版畫及數位版畫...

    日期: 地點:國立臺灣美術館
  • 2020年數位科技與視覺藝術跨界創作補助計畫徵件

    2020年數位科技與視覺藝術跨界創作補助計畫徵件

    2020年數位科技與視覺藝術跨界創作補助計畫 徵件 國立臺灣美術館為鼓勵及推動跨領域人才合作,推廣科技藝術知識及美學,連結各方資源促成多面向的交流,特辦理數位科技與視覺藝術跨界創作補助計畫徵選。藉由公開遴選之機制,補助個人或團體進行實驗性及創新研發的跨界創作,培養科技與藝術合作之契機,並創造資源整合共享之環境。 一、主辦單位 國立臺灣美術館(以下簡稱本館) 二、補助對象 (一) 經政府立案之財團法人文教基金會、社團法人、工作室(或公司)、文化社團。 (二) 大專院校相關系所。 (三) 從事視覺藝術、科技藝術、文化創意產業相關領域之團隊或個人。 三、補助條件或標準 (一) 補助條件: 申請計畫內容須結合視覺藝術與數位科技技術,並可加入其他不同領域之合作。 計畫完成後,應依據申請者(團隊)於計畫書中所述之內容、計畫預期成果等,由申請者(團隊)自行提出項目及比例,開放分享給社會大眾運用。 申請者(團隊)須以跨領域合作為前提,由不同專業之個人或團隊結合,共同進行創作提案。計畫成員中,並須包含具有跨界整合及...

    日期: 地點:國立臺灣美術館
  • 中華民國第35屆版印年畫徵選活動-得獎名單公布

    中華民國第35屆版印年畫徵選活動-得獎名單公布

    中華民國第35屆版印年畫徵選活動–得獎名單公布 獎項 作 者 作品名稱 首獎 楊紋瑜 春囍 首獎 蔡宗翰 福鼠臨門 首獎 黃得誠 好事一籮筐 首獎 林淑芬 吉鼠到平安來 首獎 蘇智偉 數不盡 首獎 張芯晨 鼠歲豐登 ...

    日期: 地點:國立臺灣美術館
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